深圳市科翔模具有限公司
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區(qū)第二工業區24棟A區
隨著塑料製品日溢廣泛的(de)應用,如日化用品和飲料包裝容器等,外觀的需要往往要求塑料模具(jù)型腔的表麵達到鏡麵拋光的程度。而生產光學鏡(jìng)片、鐳射唱片等(děng)模具對表麵粗(cū)糙度要求極高(gāo),因而對拋光性(xìng)的要求也極(jí)高。
拋光不僅增加工(gōng)件的美(měi)觀(guān),而且能夠改善材料表麵(miàn)的耐腐蝕性(xìng)、耐磨性,還可以使模具擁有其它優點,如使塑料製品易於脫模,減少(shǎo)生(shēng)產注塑周期(qī)等。因而拋光在塑料模具製(zhì)作過程中是很重要的一道工序。
目前常用的拋光方法(fǎ)有以下幾種:
1.1 機械拋光
機械拋光是*切削(xuē)、材料表麵塑(sù)性(xìng)變形去掉被(bèi)拋光後的凸部而得到平滑麵的拋光方法,一般使用油石條、羊毛輪(lún)、砂紙等(děng),以手工操作為主,特殊零件如回轉體(tǐ)表麵,可使(shǐ)用轉台等輔助工具,表麵質(zhì)量 要求高的可采用超精研拋的方法。
超精研拋是采用(yòng)特製的(de)磨具,在(zài)含有磨料的研拋液中,緊壓在工件被加(jiā)工(gōng)表麵上,作高速旋轉運動。利用該技術可以達到Ra0.008μm的表麵粗糙度,是各種拋光方法中最高的(de)。光(guāng)學鏡(jìng)片模具常(cháng)采用(yòng)這種方(fāng)法。
1.2 化學拋光
化學拋光是讓材料在化學介(jiè)質中表麵微觀凸出的部分較凹部分優(yōu)先溶解,從而得到平滑麵。這(zhè)種方(fāng)法的主(zhǔ)要優點是不需(xū)複雜設備,可以拋光形狀複雜的工件,可以同時拋光很多工件,效率高。化學拋光的核(hé)心問題是拋(pāo)光液的配製。化學拋光得到的表麵粗糙(cāo)度一般為數10μm。
1.3 電解拋光(guāng)
電解拋光基本原理與化學拋光相同,即*選擇性的(de)溶解材料表麵(miàn)微小凸出部分,使表麵光滑。與化學(xué)拋(pāo)光(guāng)相比,可以消(xiāo)除陰極反(fǎn)應的影響,效果較好。電化學拋光過程分為兩步:
(1)宏觀整平 溶解產物向電(diàn)解液中擴散,材料表麵幾何粗糙下降,Ra>1μm。
(2)微光平(píng)整(zhěng) 陽極極化,表麵光亮度提高,Ra<1μm。
1.4 超聲波拋光(guāng)
將工件放入磨料懸浮液中並一起置於超(chāo)聲波場中,依*超聲波的振蕩作用,使磨料在工件表(biǎo)麵磨削拋(pāo)光。超聲波加工宏觀力小,不會引起工件變形,但工裝(zhuāng)製作和安裝較困難。超聲波加工可以與化學或電化學方法結合。在溶液(yè)腐蝕、電(diàn)解的(de)基礎上,再(zài)施加超聲波振動攪拌溶液,使工(gōng)件表麵溶解產物(wù)脫離,表(biǎo)麵附近的腐(fǔ)蝕或電解質均勻;超聲波在液體中的空化作(zuò)用還能夠抑製腐蝕過程,利於表麵光亮化(huà)
1.5 流體拋光
流體拋光是依*高速流動的液體及其攜帶的磨粒衝刷工件表麵達到拋光的目的。常用方法有:磨料噴射加工、液體噴射加工、流體動力研(yán)磨等。流體動力研磨是由液壓驅(qū)動,使攜(xié)帶磨粒的液體介質高(gāo)速(sù)往複流過(guò)工件表麵(miàn)。介(jiè)質主要采用在較低壓力下流過性(xìng)好的特殊化合物(聚合物(wù)狀物質)並(bìng)摻上磨料製成,磨料可(kě)采用碳化矽粉末。
1.6 磁研磨拋光(guāng)
磁研磨拋光是利用磁性(xìng)磨料(liào)在磁場作用(yòng)下形(xíng)成磨料刷,對工件磨削加工。這種方法(fǎ)加工效(xiào)率高,質(zhì)量好,加工條件容易控製,工作條件好。采用合適的磨料,表麵粗糙度可以達到Ra0.1μm。
在塑料模具加工中所說的拋光與其他行業中所要求的表(biǎo)麵拋光有很大的不同,嚴格來說,模具的拋光(guāng)應該(gāi)稱為鏡(jìng)麵加工(gōng)。它不僅(jǐn)對拋光本身有很高的(de)要求並且對表麵平整度、光滑度以及幾(jǐ)何精確度也有很高的(de)標準。表麵拋光一般隻要求獲得光(guāng)亮的表麵即可。
鏡麵加工的標準分為四級:AO=Ra0.008μm,A1=Ra0.016μm,A3=Ra0.032μm,A4=Ra0.063μm,由於(yú)電解拋光、流體拋光等方法很難精確控製零(líng)件的幾何精確度,而化學拋光(guāng)、超(chāo)聲波拋光、磁研磨拋光等方法的表麵質量又達不到要(yào)求,所(suǒ)以精密模具的鏡麵加工(gōng)還(hái)是以機(jī)械拋光為主(zhǔ)。
機械拋光基本程序
要想獲得高質(zhì)量的拋光效果,最重要的是(shì)要具備有高質量的油石、砂紙和鑽石研磨膏等(děng)拋光工具和輔助品。而拋光程序的選擇取決於前期加工後的表麵狀況,如機械加(jiā)工、電火花加工,磨加工等等。機械拋光的一般過程如下:
1、粗拋(pāo)
經銑、電火花、磨等工藝後的表麵可以(yǐ)選擇轉速(sù)在35 000—40 000 rpm的(de)旋轉表麵拋光機或超聲波研磨機進行(háng)拋光(guāng)。常(cháng)用的方法有利用直徑Φ3mm、WA # 400的輪子去除白色電火花層。然(rán)後是(shì)手工油石研磨,條狀(zhuàng)油石加煤(méi)油作為潤(rùn)滑劑或冷卻劑。一般的使用順序為#180 ~ #240 ~ #320 ~ #400 ~ #600 ~ #800 ~ #1000。許多模具製造商為了節約時間(jiān)而選擇從#400開始。
2、半精拋
半精拋主要(yào)使用砂紙和煤油。砂紙的號(hào)數(shù)依次為:#400 ~ #600 ~ #800 ~ #1000 ~ #1200 ~ #1500。實(shí)際上#1500砂紙隻用適於淬硬的模具鋼(52HRC以上),而(ér)不適用於預硬鋼,因為這(zhè)樣(yàng)可能會導致預硬鋼件(jiàn)表麵燒傷。
3、精拋
精拋主要使用鑽石研磨膏。若用拋光布輪混合(hé)鑽石研磨(mó)粉或研磨膏進行研磨的話,則通常的研磨順序是9μm(#1800)~ 6μm(#3000)~3μm(#8000)。9μm的鑽石研磨膏和拋光布輪可用來去除#1200和#1500號砂紙留下的發狀磨痕(hén)。接著用粘氈和鑽石研磨膏進行拋光,順序為1μm(#14000)~ 1/2μm(#60000)~1/4μm(#100000)。
精度要求(qiú)在1μm以上(shàng)(包括1μm)的拋光工藝(yì)在模具(jù)加工車間中一個清潔的(de)拋(pāo)光室內即可進行。若進行更加精(jīng)密的拋光則必需一個絕(jué)對潔淨的空間。灰塵、煙霧,頭皮(pí)屑和口水沫都(dōu)有(yǒu)可能報(bào)廢(fèi)數個小時工作後得到的高精密拋光表麵。
機(jī)械拋光中要注意的問題
用砂紙(zhǐ)拋光應注意(yì)以下幾點:
1、用砂紙拋光(guāng)需要利用軟的木棒或竹棒。在拋光圓麵或球麵時,使用軟木棒可更好的配合圓麵和球麵的弧度。而較硬的木條像櫻桃木(mù),則更適用於平整表麵(miàn)的拋光(guāng)。修整(zhěng)木條的末(mò)端使其能與鋼件表麵形狀保持吻合,這樣可以避免木(mù)條(或竹條)的銳(ruì)角接觸鋼件表麵而(ér)造成較深的劃痕。
2、當換用不同型號的砂(shā)紙時,拋光方向應變換45°~ 90°,這樣前一種型號砂紙拋光(guāng)後留下的條紋陰影即可分辨出來。在換不同型號砂紙之前,必須用100%純棉花沾取酒精之類的清(qīng)潔液對拋光表麵進行仔細的擦拭,因為一顆很小的沙礫留(liú)在表(biǎo)麵都會毀(huǐ)壞(huài)接下去的整個拋光工作。從砂(shā)紙拋光換成鑽石研磨(mó)膏拋光時,這(zhè)個清潔過程同樣重要。在拋光繼續進行(háng)之前,所有顆粒和煤油(yóu)都必須被完全清潔(jié)幹(gàn)淨。
3、為了避免擦傷和(hé)燒傷工件表(biǎo)麵,在用(yòng)#1200和#1500砂紙進行拋光時必須特別(bié)小心。因而有必要加載一個輕載(zǎi)荷以及采用兩步拋光法對表麵進行拋光。用每一種型號的砂紙進行拋光時都應(yīng)沿兩個不同(tóng)方向進行兩次拋光(guāng),兩個方向之間每次轉(zhuǎn)動45°~ 90°。
鑽石(shí)研磨拋光(guāng)應注意以下幾點:
1、這種拋光必須盡量(liàng)在較輕的壓力下進行特別是拋光預硬鋼件(jiàn)和用(yòng)細研磨膏拋光(guāng)時。在用#8000研(yán)磨膏(gāo)拋光時,常用載荷為100~200g/cm2,但(dàn)要保持此載(zǎi)荷的精準(zhǔn)度很難做到。
為了(le)更容(róng)易做到這一點,可以在木條上做一個薄且窄的手柄,比如加一銅片;或者在竹條上切去一部分而使其更加柔軟。這樣可以幫助(zhù)控製拋光壓力,以(yǐ)確(què)保模具表麵壓力不會過高。
2、當使用鑽石研磨拋光(guāng)時,不僅是工(gōng)作表麵要求潔(jié)淨,工作者的雙手也必須仔細清潔。
3、每次拋光時間不應過長,時間越短,效果越好(hǎo)。如果拋光過程進行得過長將會造成“橘皮”和“點蝕”。
4、為獲得高質(zhì)量的拋光效果(guǒ),容易發熱的(de)拋光方法(fǎ)和工具都應避免。比如:拋(pāo)光輪拋光(guāng),拋光輪產生的熱量會很容易造成“橘皮”。
5、當(dāng)拋光過(guò)程停止時,保證工件表麵潔淨和仔細去除所有研磨劑和潤滑劑非常重(chóng)要,隨(suí)後應在表麵噴(pēn)淋一(yī)層模具防鏽塗層。
由於機(jī)械拋光主(zhǔ)要還是(shì)*人工完成(chéng),所以拋光技(jì)術目前還是(shì)影響拋光質量的主要原因。除此之(zhī)外,還(hái)與模具材料、拋光前(qián)的表麵狀況、熱(rè)處理(lǐ)工藝等有關。優(yōu)質的鋼材是獲得良好拋光質量的前提條件,如果鋼材表麵硬度不均或特(tè)性上有差異,往往會產生拋光困難。鋼材中的各種(zhǒng)夾雜物和氣孔都不利於拋光。
不同硬度對拋光工藝(yì)的影響
硬度增高使研磨的困(kùn)難增(zēng)大,但拋光後的粗糙度減小。由於硬度的增(zēng)高,要達到較低的粗糙(cāo)度所需的拋光時間相應增長。同時硬度增高(gāo),拋光過度的可能性相應減少。
工件表麵狀況對拋光工藝的影響
鋼材在切削機械加工的破碎過程中,表層(céng)會因熱量、內應力或其他因素而損壞,切削參(cān)數不當會影響拋光效果。電火花加工(gōng)後的(de)表麵比普通機械加工或熱(rè)處理後的表麵更難研磨,因此電(diàn)火花加(jiā)工(gōng)結(jié)束(shù)前應采用精規準電火(huǒ)花(huā)修整,否(fǒu)則表麵會(huì)形成硬化薄層(céng)。
如果電火花精修規準選擇不當,熱影響層的深度最大可達0.4mm。硬化薄(báo)層的硬度比(bǐ)基體硬度高,必須去除。因此最好(hǎo)增加一道粗磨加工(gōng),徹底(dǐ)清除損壞表麵層,構成一片平均粗(cū)糙(cāo)的金屬麵,為拋光加工(gōng)提供一個(gè)良好基(jī)礎。
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