塑料成型工藝（yì）中描述的拋光與（yǔ）其他行業所需的表（biǎo）麵拋光有很大不同，嚴格來說，模（mó）具的拋光應稱為鏡麵拋光。它不僅對拋光

本身有很（hěn）高（gāo）的要求，而且對表（biǎo）麵平整（zhěng）度、的（de）平（píng）滑度和幾何精度（dù）也有很（hěn）高的標準。表麵拋光（guāng）通（tōng）常僅需要光澤表（biǎo）麵。鏡像處理標準

分（fèn）為四個級別。

　　對於電解拋（pāo）光、流體拋光的過程中，它是難以準確地控製各部分的幾何精度，由於化學拋光所述超聲波拋光、磁性拋光的、表麵質量不是必需的，精密（mì）模具主要是基於機械拋光。 。

　　1、半精細拋光主要使用砂紙實驗（yàn）室和煤油（yóu）協會。

　　2、精密拋光主要製作金剛石膏。通常的磨削，以除去為9um（＃1800）-6um（＃3000）-um是在殼體＃1200和砂紙（8000）的＃1500離開頭發的痕跡，拋光布（bù）為9um的金剛石研磨膏你可以使用方向盤。然後使用1μm（＃14000）至1 /2μ

m（60000）至1 /4μm（＃100000）量級的氈和金剛石漿料進行拋光。要求精度為1微（wēi）米或更大（包（bāo）括1微米）的拋光工藝

必須是絕對清潔的空間，用於拋光模具。灰塵（chén）、煙霧，頭皮屑和唾液可能具有（yǒu）高精度拋光表麵（miàn），可在工作數小時後獲得。

　　3、為了獲得機械（xiè）拋光的（de）基本程序，高質量的拋光效果，最重（chóng）要（yào）的是要有高質量的拋光工具和砂紙和（hé）研（yán）磨膏（gāo）等配件。最重要（yào）的是一個複（fù）雜的工（gōng）作環境（jìng），需要一個潔淨室。拋光程序的選擇取決於先前加工的表麵狀況，例如、 EDM加工，磨削。

　　4、機械拋光的一般過程如下。粗拋（pāo）、銑削、電火花（huā）、的處理之後磨削表麵可（kě）以被選擇（zé）在35000-40000rpm的旋轉表麵研磨機或超聲波粉碎機旋轉。常見的方法是使用直徑為3 mm、 WA＃400的輪子去除白色火花層。然後手動油石磨，金剛（gāng）石

砂岩（yán）和煤油條（tiáo）作為（wéi）潤滑劑或冷卻劑。一般使用順序是（shì）＃180  - ＃240  - ＃400  - ＃600  - ＃1000。

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