深圳市科(kē)翔模具有限公司
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區第二工業區24棟A區
塑料成型工藝中描述的拋(pāo)光與其他行業所需的表麵(miàn)拋光有很大不同,嚴格來說,模具的拋(pāo)光應稱為鏡麵拋光。它不僅(jǐn)對拋光
本身有很(hěn)高的要求(qiú),而且對表(biǎo)麵平整度、的平滑度和幾何精(jīng)度也有很高的標準。表麵(miàn)拋(pāo)光通常僅(jǐn)需要光澤表麵。鏡像處理標準
分為四個級別。
對於電解拋光、流體拋光(guāng)的過程中,它是難以(yǐ)準(zhǔn)確地控製各部分的幾何精度,由於化學拋(pāo)光所述超聲波拋光、磁(cí)性(xìng)拋光的、表麵質量不是必需的,精密(mì)模具主要是基於機(jī)械拋光。 。
1、半精細拋光主要使(shǐ)用砂紙實驗室和煤油協會。
2、精密拋光(guāng)主要製作金剛(gāng)石膏。通常的磨削,以除(chú)去為9um(#1800)-6um(#3000)-um是在殼體#1200和砂(shā)紙(zhǐ)(8000)的#1500離開(kāi)頭發的痕跡,拋光布為9um的金(jīn)剛石研磨膏你可以使用方向(xiàng)盤。然後使用1μm(#14000)至1 /2μ
m(60000)至1 /4μm(#100000)量級的氈和金剛(gāng)石漿料(liào)進行拋光。要求精度為1微米或更大(dà)(包括1微米)的拋光工藝
必須是絕對(duì)清潔的空間,用於拋光模具。灰塵、煙霧,頭皮屑和唾液可能具有高精度(dù)拋光表麵,可在工作數小時後(hòu)獲得。
3、為(wéi)了獲得機械拋光的基本程序,高質量的拋光效果(guǒ),最(zuì)重要(yào)的是要有高(gāo)質量的(de)拋光工具和砂(shā)紙和研磨膏等配件。最重要的是一個複雜(zá)的工作(zuò)環境(jìng),需要一個潔淨室。拋光程序的選擇取決於先前加工的表麵狀況,例如、 EDM加工,磨削(xuē)。
4、機械拋光的一般過程(chéng)如下。粗拋、銑削、電火花、的處理之(zhī)後磨削表麵可以被選擇在35000-40000rpm的旋轉表麵研磨機或超聲波粉碎機(jī)旋轉。常見的方法是使用直(zhí)徑為3 mm、 WA#400的輪子去除(chú)白色火花層。然後手動油石磨,金(jīn)剛石
砂(shā)岩和煤油條作為潤滑劑或冷卻劑。一般使用順序(xù)是#180 - #240 - #400 - #600 - #1000。
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